טכנולוגיית ציפוי התזה

1. תכונות של ציפוי גמגום
בהשוואה לציפוי אידוי ואקום קונבנציונלי, לציפוי התזה יש את התכונות הבאות:
(1) ניתן להתזה על כל חומר, במיוחד יסודות ותרכובות בעלי נקודת התכה גבוהה ולחץ אדים נמוך. כל עוד מדובר במוצק, בין אם מדובר במתכת, מוליך למחצה, מבודד, תרכובת ותערובת וכו', בין אם מדובר בבלוק, ניתן להשתמש בחומר גרגירי כחומר מטרה. מכיוון שמתרחשים מעט פירוק וחלוקה בעת התזה על חומרי בידוד וסגסוגות כגון תחמוצות, ניתן להשתמש בהם להכנת שכבות דקות וסרטי סגסוגת בעלי רכיבים אחידים הדומים לאלה של חומר המטרה, ואפילו שכבות מוליכות-על בעלות הרכבים מורכבים. בנוסף, ניתן להשתמש בשיטת ההתזה הריאקטיבית גם לייצור שכבות של תרכובות שונות לחלוטין מחומר המטרה, כגון תחמוצות, ניטרידים, קרבידים וסיליקדים.
(2) הידבקות טובה בין הסרט המותז למצע. מכיוון שהאנרגיה של האטומים המותזים גבוהה ב-1-2 סדרי גודל מזו של האטומים המתאדים, המרת האנרגיה של חלקיקים בעלי אנרגיה גבוהה המופקדים על המצע מייצרת אנרגיה תרמית גבוהה יותר, מה שמשפר את הידבקות האטומים המותזים למצע. חלק מהאטומים המותזים בעלי האנרגיה הגבוהה יוזרק בדרגות שונות, ויווצר שכבת פסאודו-דיפוזיה על המצע שבה האטומים המותזים ואטומי חומר המצע "מתערבבים" זה עם זה. בנוסף, במהלך הפצצת חלקיקי המותזים, המצע מנוקה ומופעל תמיד באזור הפלזמה, מה שמסיר את האטומים המשקעים שהדביקו בצורה גרועה, מטהר ומפעיל את פני המצע. כתוצאה מכך, הידבקות שכבת הסרט המותז למצע משופרת מאוד.
(3) צפיפות גבוהה של ציפוי התזה, פחות חורים וטוהר גבוה יותר של שכבת הסרט מכיוון שאין זיהום בכור היתוך, דבר בלתי נמנע בתהליך ציפוי התזה בשקיעת אדים בוואקום.
(4) יכולת בקרה וחזרה טובות של עובי הסרט. מכיוון שניתן לשלוט בנפרד בזרם הפריקה ובזרם המטרה במהלך ציפוי ההתזה, ניתן לשלוט בעובי הסרט על ידי שליטה בזרם המטרה, וכך, יכולת השליטה בעובי הסרט ושחזור עובי הסרט על ידי התזה מרובה של ציפוי ההתזה טובות, וניתן לצפות ביעילות סרט בעובי קבוע מראש. בנוסף, ציפוי התזה יכול להשיג עובי סרט אחיד על פני שטח גדול. עם זאת, עבור טכנולוגיית ציפוי התזה כללית (בעיקר התזה דיפולרית), הציוד מורכב ודורש מכשיר בלחץ גבוה; מהירות יצירת הסרט של שקיעת ההתזה נמוכה, קצב שקיעת האידוי בוואקום הוא 0.1~5 ננומטר/דקה, בעוד שקצב ההתזה הוא 0.01~0.5 ננומטר/דקה; עליית טמפרטורת המצע גבוהה ופגיעה לגז טומאה וכו'. עם זאת, עקב פיתוח טכנולוגיית התזה RF והתזה מגנטרונית, הושגה התקדמות רבה בהשגת שקיעת התזה מהירה והפחתת טמפרטורת המצע. יתר על כן, בשנים האחרונות נחקרות שיטות חדשות לציפוי התזה - המבוססות על התזה מגנטרונית מישורית - כדי למזער את לחץ האוויר במהלך ההתזה עד להתזה בלחץ אפס שבו לחץ גז היניקה במהלך ההתזה יהיה אפס.