גורמים המשפיעים על היווצרות שכבה פרק 1

(1) גז התזה. גז ההתזה צריך להיות בעל מאפיינים של תפוקת התזה גבוהה, אינרטי לחומר המטרה, זול, קל להשגה, טוהר גבוה ומאפיינים נוספים. באופן כללי, ארגון הוא גז ההתזה האידיאלי יותר.

(2) מתח התזה ומתח מצע. לשני פרמטרים אלה יש השפעה חשובה על מאפייני הסרט. מתח ההתזה לא רק משפיע על קצב ההפקדה, אלא גם משפיע באופן משמעותי על מבנה הסרט המופקד. פוטנציאל המצע משפיע ישירות על זרימת האלקטרונים או היונים בהזרקה אנושית. אם המצע מחובר לקרקע, הוא מופצץ על ידי אלקטרונים שווים; אם המצע תלוי, הוא נמצא באזור פריקת הזוהר ומקבל פוטנציאל שלילי מעט יחסית לקרקע של פוטנציאל ההשעיה V1, ופוטנציאל הפלזמה סביב המצע V2 יהיה גבוה מפוטנציאל המצע, מה שיגרום למידה מסוימת של הפצצה של אלקטרונים ויונים חיוביים, וכתוצאה מכך שינויים בעובי הסרט, בהרכבו ובמאפיינים אחרים: אם המצע מפעיל מתח הטיה בכוונה, כך שהוא תואם את הקוטביות של קליטת האלקטרונים או היונים החשמליים, לא רק יכול לטהר את המצע ולשפר את הידבקות הסרט, אלא גם לשנות את מבנה הסרט. בציפוי התזה בתדר רדיו, הכנת קרום מוליך בתוספת הטיה DC: הכנת קרום דיאלקטרי בתוספת הטיה כוונון.

(3) טמפרטורת המצע. לטמפרטורת המצע יש השפעה גדולה יותר על המאמץ הפנימי של הסרט, הנובעת מכך שהטמפרטורה משפיעה ישירות על פעילות האטומים המופקדים על המצע, ובכך קובעת את הרכב הסרט, המבנה, גודל הגרעינים הממוצע, כיוון הגביש וחוסר השלמות.

–מאמר זה פורסם על ידייצרן מכונות ציפוי ואקוםגואנגדונג ז'נהואה