ZHCVD1200

L'apparecchiatura utilizza principalmente la deposizione chimica da fase vapore (CVD) per la preparazione di film di ossido, caratterizzati da un'elevata velocità di deposizione e un'alta qualità del film. Per quanto riguarda la struttura dell'apparecchiatura, viene utilizzata una struttura a doppia porta per migliorare l'efficienza di serraggio, e viene adottato un sistema di alimentazione di gas liquido di ultima generazione per garantire un flusso stabile e controllabile e assicurare efficacemente la stabilità del processo. Il film preparato con questa apparecchiatura presenta una buona barriera al vapore acqueo e un periodo di stabilità più lungo nei test di ebollizione.
L'apparecchiatura può essere applicata ad acciaio inossidabile, componenti metallici/plastici galvanizzati, vetro, ceramica e altri materiali, come prodotti elettronici, LED, dispositivi medici e altri prodotti che necessitano di resistenza all'ossidazione. La pellicola barriera di SiOx è principalmente preparata per bloccare efficacemente il vapore acqueo, prevenire la corrosione e l'ossidazione e migliorare la durata del prodotto.