ZHCVD1200

O equipamento utiliza principalmente a deposição química de vapor para preparar o filme de óxido, apresentando características como alta taxa de deposição e alta qualidade do filme. Quanto à estrutura do equipamento, a estrutura de porta dupla é utilizada para melhorar a eficiência de fechamento, e o mais recente sistema de fornecimento de gás líquido é adotado para garantir um fluxo estável e controlável, assegurando efetivamente a estabilidade do processo. O filme preparado pelo equipamento apresenta boa barreira ao vapor de água e maior período de estabilidade no teste de ebulição.
O equipamento pode ser aplicado em aço inoxidável, peças metálicas/plásticas galvanizadas, vidro, cerâmica e outros materiais, como produtos eletrônicos, LEDs, suprimentos médicos e outros produtos que necessitam de resistência à oxidação. A película de barreira de SiOx é preparada principalmente para bloquear eficazmente o vapor de água, prevenir a corrosão e a oxidação e aumentar a vida útil do produto.