නිෂ්පාදනය විස්තරය
මෙම උපකරණ ප්‍රධාන වශයෙන් ඔක්සයිඩ් පටල සකස් කිරීම සඳහා රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම භාවිතා කරයි, එය වේගවත් තැන්පත් වීමේ අනුපාතය සහ ඉහළ චිත්‍රපට ගුණාත්මක භාවයේ ලක්ෂණ ඇත.උපකරණ ව්‍යුහය සම්බන්ධයෙන් ගත් කල, කලම්ප කාර්යක්ෂමතාව වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා ද්විත්ව දොර ව්‍යුහය භාවිතා කරන අතර, ස්ථායී සහ පාලනය කළ හැකි ප්‍රවාහයක් සහතික කිරීම සහ ක්‍රියාවලි ස්ථායිතාව ඵලදායි ලෙස සහතික කිරීම සඳහා නවතම ද්‍රව වායු සැපයුම් පද්ධතිය අනුගමනය කරයි.උපකරණ මගින් සකස් කරන ලද චිත්රපටය හොඳ ජල වාෂ්ප බාධකයක් සහ තාපාංක පරීක්ෂණයෙහි දිගු ස්ථායී කාල පරිච්ඡේදයක් ඇත.
මල නොබැඳෙන වානේ, විද්‍යුත් ආලේපිත දෘඩාංග / ප්ලාස්ටික් කොටස්, වීදුරු, පිඟන් මැටි සහ ඉලෙක්ට්‍රොනික නිෂ්පාදන, LED ආලෝක පබළු, වෛද්ය සැපයුම් සහ ඔක්සිකරණ ප්‍රතිරෝධය අවශ්‍ය අනෙකුත් නිෂ්පාදන වැනි ද්‍රව්‍ය සඳහා උපකරණ යෙදිය හැකිය.SiOx බාධක පටලය ප්‍රධාන වශයෙන් සකස් කර ඇත්තේ ජල වාෂ්ප ඵලදායි ලෙස අවහිර කිරීම, විඛාදනය සහ ඔක්සිකරණය වැළැක්වීම සහ නිෂ්පාදන ආයු කාලය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා ය.
| විකල්ප ආකෘති | අභ්යන්තර කුටියේ ප්රමාණය |
| ZHCVD1200 | φ1200*H1950(මි.මී.) |
කර්මාන්ත යෙදුම
සාපේක්ෂ උපාංග
View ක්ලික් කරන්න
උණුසුම් සූතිකා CVD උපකරණ
රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ උපකරණවල රික්ත ආලේපන කුටිය ස්වාධීන ද්විත්ව ස්ථර ජල සිසිලන ව්‍යුහයක් භාවිතා කරයි, එය සිසිලනය කිරීමේදී කාර්යක්ෂම හා ඒකාකාරී වේ.