ZHCVD1200

Udstyret vedtager hovedsageligt kemisk dampaflejring til fremstilling af oxidfilm, som har karakteristika af hurtig aflejringshastighed og høj filmkvalitet.Hvad angår udstyrsstrukturen, bruges den dobbelte dørstruktur til at forbedre spændingseffektiviteten, og det nyeste flydende gasforsyningssystem er vedtaget for at sikre stabilt og kontrollerbart flow og effektivt sikre processtabiliteten.Filmen fremstillet af udstyret har en god vanddampbarriere og længere stabil periode i kogetest.
Udstyret kan anvendes på rustfrit stål, galvaniseret hardware/plastikdele, glas, keramik og andre materialer, såsom elektroniske produkter, LED lysperler, medicinske forsyninger og andre produkter, der har brug for oxidationsmodstand.SiOx barrierefilm er hovedsageligt forberedt til effektivt at blokere vanddamp, forhindre korrosion og oxidation og forbedre produktets levetid.