ZHCVD1200

এই যন্ত্রটি প্রধানত রাসায়নিক বাষ্প অধঃক্ষেপণ (কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন) পদ্ধতিতে অক্সাইড ফিল্ম প্রস্তুত করে, যার বৈশিষ্ট্য হলো দ্রুত অধঃক্ষেপণ হার এবং উচ্চ মানের ফিল্ম। যন্ত্রটির কাঠামোর ক্ষেত্রে, আটকানোর কার্যকারিতা বাড়ানোর জন্য দ্বি-দরজা কাঠামো ব্যবহার করা হয়েছে এবং স্থিতিশীল ও নিয়ন্ত্রণযোগ্য প্রবাহ নিশ্চিত করতে এবং প্রক্রিয়ার স্থিতিশীলতা কার্যকরভাবে নিশ্চিত করতে সর্বাধুনিক তরল গ্যাস সরবরাহ ব্যবস্থা গ্রহণ করা হয়েছে। এই যন্ত্র দ্বারা প্রস্তুত ফিল্মটির জলীয় বাষ্প প্রতিরোধ ক্ষমতা ভালো এবং ফুটন্ত পরীক্ষায় এটি দীর্ঘ সময় ধরে স্থিতিশীল থাকে।
এই সরঞ্জামটি স্টেইনলেস স্টিল, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড হার্ডওয়্যার/প্লাস্টিকের যন্ত্রাংশ, কাচ, সিরামিক এবং অন্যান্য উপকরণে প্রয়োগ করা যেতে পারে, যেমন ইলেকট্রনিক পণ্য, এলইডি লাইট বিডস, চিকিৎসা সামগ্রী এবং অন্যান্য পণ্য যেগুলিতে জারণ প্রতিরোধের প্রয়োজন। SiOx ব্যারিয়ার ফিল্ম প্রধানত জলীয় বাষ্পকে কার্যকরভাবে রোধ করতে, ক্ষয় ও জারণ প্রতিরোধ করতে এবং পণ্যের আয়ু বাড়াতে প্রস্তুত করা হয়।