ZHCVD1200

Oprema uglavnom usvaja hemijsko taloženje pare za pripremu oksidnog filma, koji ima karakteristike brze brzine taloženja i visokog kvaliteta filma.Što se tiče strukture opreme, struktura dvostrukih vrata se koristi za poboljšanje efikasnosti stezanja, a usvojen je najnoviji sistem za snabdevanje tečnim gasom kako bi se osigurao stabilan i kontrolisan protok i efikasno obezbedila stabilnost procesa.Film pripremljen opremom ima dobru barijeru za vodenu paru i duži period stabilnosti u testu ključanja.
Oprema se može primijeniti na nehrđajući čelik, galvanski hardver / plastične dijelove, staklo, keramiku i druge materijale, kao što su elektronički proizvodi, LED svjetlosne perle, medicinski materijal i drugi proizvodi kojima je potrebna otpornost na oksidaciju.SiOx barijerna folija je uglavnom pripremljena da efikasno blokira vodenu paru, spreči koroziju i oksidaciju i produži životni vek proizvoda.