POPIS PRODUKTU
Zariadenie využíva na prípravu oxidového filmu prevažne chemickú depozíciu z pár, ktorá sa vyznačuje rýchlou rýchlosťou nanášania a vysokou kvalitou filmu. Pokiaľ ide o konštrukciu zariadenia, na zlepšenie účinnosti upnutia sa používa dvojitá konštrukcia dverí a na zabezpečenie stabilného a kontrolovateľného prietoku a účinnej stability procesu sa používa najnovší systém prívodu kvapalného plynu. Film pripravený zariadením má dobrú parotesnú bariéru a dlhšiu dobu stability pri teste varu.
Zariadenie je možné použiť na nehrdzavejúcu oceľ, galvanicky pokovované hardvérové/plastové diely, sklo, keramiku a iné materiály, ako sú elektronické výrobky, LED svetelné korálky, zdravotnícke potreby a ďalšie výrobky, ktoré vyžadujú odolnosť voči oxidácii. Bariérová fólia SiOx je určená najmä na účinné blokovanie vodnej pary, prevenciu korózie a oxidácie a predĺženie životnosti výrobku.
| Voliteľné modely | veľkosť vnútornej komory |
| ZHCVD1200 | φ1200*V1950(mm) |
PRIEMYSELNÉ APLIKÁCIE
RELATÍVNE ZARIADENIA
Kliknite na Zobraziť
Roztok na priľnavosť farieb na vodnej báze
Vďaka inovatívnej modifikačnej technológii toto riešenie zvyšuje hydrofilnosť plastových povrchov a zlepšuje priľnavosť náterov na vodnej báze. Ponúka vynikajúce bariérové vlastnosti...
Zariadenie na CVD s horúcim filamentom
Vákuová povlaková komora zariadenia na chemické nanášanie z pár využíva nezávislú dvojvrstvovú vodnú chladiacu štruktúru, ktorá je efektívna a rovnomerná pri chladení...