ZHCVD1200

Utrustningen använder huvudsakligen kemisk ångavsättning för att förbereda oxidfilm, som har egenskaperna för snabb avsättningshastighet och hög filmkvalitet.När det gäller utrustningsstrukturen används dubbeldörrstrukturen för att förbättra klämeffektiviteten, och det senaste systemet för flytande gasförsörjning används för att säkerställa stabilt och kontrollerbart flöde och effektivt säkerställa processstabiliteten.Filmen som framställs av utrustningen har bra vattenångspärr och längre stabil period i koktest.
Utrustningen kan appliceras på rostfritt stål, elektropläterade hårdvaror/plastdelar, glas, keramik och andra material, såsom elektroniska produkter, LED-ljuspärlor, medicinska förnödenheter och andra produkter som behöver oxidationsbeständighet.SiOx-barriärfilm är huvudsakligen förberedd för att effektivt blockera vattenånga, förhindra korrosion och oxidation och förbättra produktens livslängd.