ZHCVD1200

El equipo emplea principalmente la deposición química en fase vapor para la preparación de la película de óxido, la cual se caracteriza por una alta velocidad de deposición y una excelente calidad. En cuanto a su estructura, utiliza una doble puerta para optimizar la sujeción, y un sistema de suministro de gas licuado de última generación que garantiza un flujo estable y controlable, asegurando así la estabilidad del proceso. La película obtenida presenta una buena barrera contra el vapor de agua y un periodo de estabilidad prolongado en la prueba de ebullición.
El equipo se puede aplicar a acero inoxidable, piezas metálicas/de plástico galvanizadas, vidrio, cerámica y otros materiales, como productos electrónicos, perlas de luz LED, suministros médicos y otros productos que requieren resistencia a la oxidación. La película barrera de SiOx se prepara principalmente para bloquear eficazmente el vapor de agua, prevenir la corrosión y la oxidación, y prolongar la vida útil del producto.