झेडएचसीव्हीडी१२००

हे उपकरण प्रामुख्याने ऑक्साईड फिल्म तयार करण्यासाठी रासायनिक बाष्प निक्षेपण (केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन) पद्धतीचा वापर करते, ज्यामध्ये जलद निक्षेपण दर आणि उच्च दर्जाची फिल्म ही वैशिष्ट्ये आहेत. उपकरणाच्या रचनेबद्दल बोलायचे झाल्यास, क्लॅम्पिंगची कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी दुहेरी दरवाजाची रचना वापरली जाते आणि स्थिर व नियंत्रित प्रवाह सुनिश्चित करण्यासाठी तसेच प्रक्रियेची स्थिरता प्रभावीपणे सुनिश्चित करण्यासाठी नवीनतम द्रव वायू पुरवठा प्रणालीचा अवलंब केला जातो. या उपकरणाद्वारे तयार केलेल्या फिल्ममध्ये पाण्याची वाफ रोखण्याची चांगली क्षमता असते आणि उकळण्याच्या चाचणीत तिचा स्थिर कालावधी जास्त असतो.
हे उपकरण स्टेनलेस स्टील, इलेक्ट्रोप्लेटेड हार्डवेअर / प्लॅस्टिकचे भाग, काच, सिरॅमिक्स आणि इतर साहित्यावर वापरले जाऊ शकते, जसे की इलेक्ट्रॉनिक उत्पादने, एलईडी लाईट बीड्स, वैद्यकीय साहित्य आणि ऑक्सिडेशन प्रतिरोधाची आवश्यकता असलेली इतर उत्पादने. SiOx बॅरियर फिल्म प्रामुख्याने पाण्याची वाफ प्रभावीपणे रोखण्यासाठी, क्षरण आणि ऑक्सिडेशनला प्रतिबंध करण्यासाठी आणि उत्पादनाचे आयुष्य वाढवण्यासाठी तयार केली जाते.