ZHCVD1200

De apparatuur maakt hoofdzakelijk gebruik van chemische dampafzetting (CVD) voor de bereiding van oxidefilms, wat zich kenmerkt door een snelle afzettingssnelheid en een hoge filmkwaliteit. De constructie van de apparatuur is voorzien van een dubbele deur voor een betere klemming, en het nieuwste vloeistofgassysteem zorgt voor een stabiele en regelbare stroming en garandeert daarmee de processtabiliteit. De geproduceerde film heeft een goede waterdampbarrière en een langere stabiliteitsperiode tijdens kookproeven.
De apparatuur kan worden toegepast op roestvrij staal, gegalvaniseerde metalen/kunststof onderdelen, glas, keramiek en andere materialen, zoals elektronische producten, ledlampjes, medische benodigdheden en andere producten die oxidatiebestendigheid vereisen. De SiOx-barrièrelaag is voornamelijk ontwikkeld om waterdamp effectief te blokkeren, corrosie en oxidatie te voorkomen en de levensduur van het product te verlengen.