ZHCVD1200

Utstyret bruker hovedsakelig kjemisk dampavsetning for å forberede oksidfilm, som har egenskapene til rask avsetningshastighet og høy filmkvalitet.Når det gjelder utstyrsstrukturen, brukes den doble dørstrukturen for å forbedre klemeffektiviteten, og det nyeste forsyningssystemet for flytende gass er tatt i bruk for å sikre stabil og kontrollerbar strømning og effektivt sikre prosessstabiliteten.Filmen laget av utstyret har god vanndampsperre og lengre stabil periode i koketest.
Utstyret kan brukes på rustfritt stål, elektrobelagte maskinvare/plastdeler, glass, keramikk og andre materialer, som elektroniske produkter, LED-lysperler, medisinsk utstyr og andre produkter som trenger oksidasjonsmotstand.SiOx-barrierefilm er hovedsakelig forberedt for å effektivt blokkere vanndamp, forhindre korrosjon og oksidasjon og forbedre produktets levetid.