ZHCVD1200

It-tagħmir prinċipalment jadotta depożizzjoni kimika tal-fwar biex jipprepara film ta 'ossidu, li għandu l-karatteristiċi ta' rata ta 'depożizzjoni mgħaġġla u kwalità għolja tal-film.Fir-rigward tal-istruttura tat-tagħmir, l-istruttura tal-bieb doppju tintuża biex ittejjeb l-effiċjenza tal-ikklampjar, u l-aħħar sistema ta 'provvista ta' gass likwidu hija adottata biex tiżgura fluss stabbli u kontrollabbli u tiżgura b'mod effettiv l-istabbiltà tal-proċess.Il-film imħejji mit-tagħmir għandu barriera tajba tal-fwar tal-ilma u perjodu itwal stabbli fit-test tat-togħlija.
It-tagħmir jista 'jiġi applikat għall-istainless steel, ħardwer electroplated / partijiet tal-plastik, ħġieġ, ċeramika u materjali oħra, bħal prodotti elettroniċi, żibeġ tad-dawl LED, provvisti mediċi u prodotti oħra li jeħtieġu reżistenza għall-ossidazzjoni.Il-film tal-barriera SiOx huwa ppreparat prinċipalment biex jimblokka b'mod effettiv il-fwar tal-ilma, jipprevjeni l-korrużjoni u l-ossidazzjoni, u jtejjeb il-ħajja tal-prodott.