ZHCVD1200

De apparatuer oannimt benammen gemyske dampdeposysje om oksidefilm te meitsjen, dy't de skaaimerken hat fan rappe ôfsettingsrate en hege filmkwaliteit.As foar de apparatuer struktuer, de dûbele doar struktuer wurdt brûkt om te ferbetterjen de clamping effisjinsje, en de nijste floeibere gas oanbod systeem wurdt oannommen om te garandearjen stabile en kontrolearbere stream en effektyf soargje foar it proses stabiliteit.De film taret troch de apparatuer hat goede wetterdamp barriêre en langer stabile perioade yn siedende test.
De apparatuer kin tapast wurde op roestfrij stiel, elektroplatearre hardware / plestik dielen, glês, keramyk en oare materialen, lykas elektroanyske produkten, LED-ljochtkralen, medyske foarrieden en oare produkten dy't oksidaasjebestriding nedich binne.SiOx-barriêrefilm is benammen taret om wetterdamp effektyf te blokkearjen, korrosje en oksidaasje te foarkommen, en produktlibben te ferbetterjen.