Оборудование в основном использует метод химического осаждения из газовой фазы для получения оксидной пленки, что характеризуется высокой скоростью осаждения и высоким качеством пленки. Что касается конструкции оборудования, то для повышения эффективности зажима используется конструкция с двойными дверями, а также применяется новейшая система подачи сжиженного газа, обеспечивающая стабильный и контролируемый поток и эффективное обеспечение стабильности процесса. Пленка, полученная с помощью этого оборудования, обладает хорошими паронепроницаемыми свойствами и более длительным периодом стабильности при кипении.
Данное оборудование может применяться для обработки нержавеющей стали, гальванизированных металлических/пластиковых деталей, стекла, керамики и других материалов, таких как электронные изделия, светодиоды, медицинские принадлежности и другие изделия, требующие стойкости к окислению. Барьерная пленка из SiOx в основном предназначена для эффективного блокирования водяного пара, предотвращения коррозии и окисления, а также увеличения срока службы изделия.
| Дополнительные модели | размер внутренней камеры |
| ЗХКВД1200 | φ1200*H1950(мм) |