ZHCVD1200

O equipo adopta principalmente a deposición química de vapor para preparar a película de óxido, que ten as características dunha taxa de deposición rápida e unha alta calidade de película.En canto á estrutura do equipamento, a estrutura de dobre porta utilízase para mellorar a eficiencia de suxeición e adóptase o último sistema de subministración de gas líquido para garantir un fluxo estable e controlable e garantir eficazmente a estabilidade do proceso.A película preparada polo equipo ten unha boa barreira de vapor de auga e un período estable máis longo na proba de ebulición.
O equipo pódese aplicar a aceiro inoxidable, ferraxes electrochapadas / pezas de plástico, vidro, cerámica e outros materiais, como produtos electrónicos, perlas de luz LED, materiais médicos e outros produtos que necesitan resistencia á oxidación.A película de barreira SiOx está preparada principalmente para bloquear eficazmente o vapor de auga, evitar a corrosión e oxidación e mellorar a vida útil do produto.