ZHCVD1200

Thiết bị chủ yếu sử dụng phương pháp lắng đọng hơi hóa học để chế tạo màng oxit, có đặc điểm là tốc độ lắng đọng nhanh và chất lượng màng cao. Về cấu trúc thiết bị, cấu trúc cửa đôi được sử dụng để cải thiện hiệu quả kẹp, và hệ thống cung cấp khí hóa lỏng tiên tiến nhất được áp dụng để đảm bảo dòng chảy ổn định và có thể kiểm soát được, từ đó đảm bảo hiệu quả sự ổn định của quá trình. Màng được chế tạo bằng thiết bị này có khả năng chắn hơi nước tốt và thời gian ổn định lâu hơn trong thử nghiệm sôi.
Thiết bị này có thể được ứng dụng cho thép không gỉ, các bộ phận phần cứng/nhựa mạ điện, thủy tinh, gốm sứ và các vật liệu khác, chẳng hạn như các sản phẩm điện tử, hạt đèn LED, vật tư y tế và các sản phẩm khác cần khả năng chống oxy hóa. Màng chắn SiOx chủ yếu được chế tạo để ngăn chặn hơi nước một cách hiệu quả, chống ăn mòn và oxy hóa, đồng thời kéo dài tuổi thọ sản phẩm.