ZHCVD1200

L'équipement utilise principalement le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la préparation de films d'oxyde, ce qui se caractérise par une vitesse de dépôt élevée et une excellente qualité de film. Sa structure à double porte améliore l'efficacité du serrage, tandis que le système d'alimentation en gaz liquide de dernière génération assure un flux stable et contrôlable, garantissant ainsi la stabilité du procédé. Le film obtenu présente une bonne barrière à la vapeur d'eau et une stabilité prolongée lors des tests d'ébullition.
Cet équipement peut être utilisé sur l'acier inoxydable, les pièces métalliques/plastiques électroplaquées, le verre, la céramique et d'autres matériaux, tels que les produits électroniques, les LED, les dispositifs médicaux et autres produits nécessitant une résistance à l'oxydation. Le film barrière SiOx est principalement conçu pour bloquer efficacement la vapeur d'eau, prévenir la corrosion et l'oxydation, et prolonger la durée de vie du produit.