ZHCVD1200

A berendezés elsősorban kémiai gőzleválasztást alkalmaz az oxidfilm előállításához, amely a gyors leválasztási sebesség és a kiváló filmminőség jellemzőivel rendelkezik.Ami a berendezés szerkezetét illeti, a kétajtós szerkezetet a befogási hatékonyság javítására használják, és a legújabb folyékony gázellátó rendszert alkalmazzák a stabil és szabályozható áramlás biztosítása és a folyamat stabilitásának hatékony biztosítása érdekében.A berendezés által készített fólia jó vízpára-záró képességgel rendelkezik, és hosszabb ideig tart a forrástesztben.
A berendezés alkalmazható rozsdamentes acélra, galvanizált hardverre / műanyag alkatrészekre, üvegre, kerámiára és egyéb anyagokra, például elektronikai termékekre, LED-fénygyöngyökre, orvosi kellékekre és egyéb olyan termékekre, amelyeknek oxidációállóságra van szükségük.A SiOx zárófóliát elsősorban a vízgőz hatékony blokkolására, a korrózió és az oxidáció megelőzésére, valamint a termék élettartamának javítására készítik.