ZHCVD1200

Обладнання в основному використовує хімічне осадження з парової фази для приготування оксидної плівки, яка характеризується високою швидкістю осадження та високою якістю плівки. Що стосується конструкції обладнання, то для підвищення ефективності затискання використовується подвійна дверна конструкція, а для забезпечення стабільного та контрольованого потоку й ефективної стабільності процесу застосовується новітня система подачі рідкого газу. Плівка, виготовлена ​​на обладнанні, має хороший бар'єр для водяної пари та довший період стабільності у випробуванні на кипіння.
Обладнання може застосовуватися для нержавіючої сталі, гальванізованих деталей з металу/пластику, скла, кераміки та інших матеріалів, таких як електронні вироби, світлодіодні лампи, медичні приладдя та інші вироби, що потребують стійкості до окислення. Бар'єрна плівка SiOx в основному призначена для ефективного блокування водяної пари, запобігання корозії та окисленню, а також для збільшення терміну служби виробу.