ZHCVD1200

Абсталяванне ў асноўным выкарыстоўвае хімічнае асаджэнне з паравой фазы для падрыхтоўкі аксіднай плёнкі, якая характарызуецца высокай хуткасцю асаджэння і высокай якасцю плёнкі. Што тычыцца канструкцыі абсталявання, то для павышэння эфектыўнасці заціску выкарыстоўваецца падвойная канструкцыя з дзверцамі, а для забеспячэння стабільнага і кантраляванага патоку і эфектыўнай стабільнасці працэсу выкарыстоўваецца найноўшая сістэма падачы вадкага газу. Плёнка, падрыхтаваная на гэтым абсталяванні, мае добры бар'ер для вадзяной пары і больш працяглы перыяд стабільнасці ў выпрабаванні на кіпячэнне.
Абсталяванне можна выкарыстоўваць для апрацоўкі нержавеючай сталі, гальванізаваных вырабаў з металу/пластыка, шкла, керамікі і іншых матэрыялаў, такіх як электронныя вырабы, святлодыёдныя лямпы, медыцынскія прыналежнасці і іншыя вырабы, якія патрабуюць устойлівасці да акіслення. Бар'ерная плёнка SiOx у асноўным прызначана для эфектыўнага блакавання вадзяной пары, прадухілення карозіі і акіслення, а таксама для падаўжэння тэрміну службы вырабаў.