ZHCVD1200

L'apparecchiatura adotta principalmente la deposizione chimica da vapore per preparare il film di ossido, che presenta le caratteristiche di una rapida velocità di deposizione e di un'elevata qualità del film. Per quanto riguarda la struttura dell'apparecchiatura, la struttura a doppia porta viene utilizzata per migliorare l'efficienza di serraggio e il più recente sistema di alimentazione a gas liquido viene adottato per garantire un flusso stabile e controllabile e garantire efficacemente la stabilità del processo. Il film preparato dall'apparecchiatura presenta un'ottima barriera al vapore acqueo e un periodo di stabilità più lungo durante il test di ebollizione.
L'attrezzatura può essere applicata ad acciaio inossidabile, componenti in plastica e ferramenta galvanizzate, vetro, ceramica e altri materiali, come prodotti elettronici, perle luminose a LED, forniture mediche e altri prodotti che richiedono resistenza all'ossidazione. Il film barriera SiOx è principalmente preparato per bloccare efficacemente il vapore acqueo, prevenire la corrosione e l'ossidazione e migliorare la durata del prodotto.