1. Korisno za raspršivanje i nanošenje izolacijskog filma. Brza promjena polariteta elektrode može se koristiti za izravno raspršivanje izolacijskih meta kako bi se dobili izolacijski filmovi. Ako se za raspršivanje i nanošenje izolacijskog filma koristi istosmjerni izvor napajanja, izolacijski film će blokirati ulazak pozitivnih iona u katodu, stvarajući sloj akumulacije pozitivnih iona, koji je sklon probijanju i paljenju. Nakon nanošenja izolacijskog filma na anodu, elektroni su blokirani od ulaska u anodu, što rezultira fenomenom nestanka anode. Kada se za premazivanje izolacijskog filma koristi RF izvor napajanja, zbog izmjeničnog polariteta elektroda, pozitivni naboji akumulirani na katodi u prvoj polovici ciklusa bit će neutralizirani elektronima u drugoj polovici ciklusa, a elektroni akumulirani na anodi bit će neutralizirani pozitivnim ionima. Suprotan proces u drugoj polovici ciklusa može eliminirati nakupljanje naboja na elektrodi, a proces pražnjenja može se normalno odvijati.
2. Visokofrekventne elektrode generiraju vlastitu pristranost. U RF uređaju s ravnom strukturom elektroda, visokofrekventne elektrode u krugu pomoću kapacitivnog spajanja generiraju napon vlastite pristranosti. Velika razlika između brzine migracije elektrona i brzine migracije iona pri pražnjenju omogućuje elektronima postizanje veće brzine kretanja u određenom trenutku, dok sporija brzina iona uzrokuje akumulaciju. Visokofrekventna elektroda je na negativnom potencijalu veći dio svakog ciklusa, što rezultira negativnim naponom na terenu, što je fenomen vlastite pristranosti visokofrekventne elektrode.
Samopolarizacija koju generira RF elektroda za pražnjenje ubrzava bombardiranje ionima katodne elektrode kako bi kontinuirano emitirala sekundarne elektrone za održavanje procesa pražnjenja, a samopolarizacija igra sličnu ulogu kao i pad napona katode u istosmjernom tinjajućem pražnjenju. Iako se koristi RF napajanje, pražnjenje može biti stabilno zbog napona samopolarizacije koji generira visokofrekventna elektroda, a koji doseže 500-1000 V.
3. Radiofrekvencijsko pražnjenje igra važnu ulogu u kasnije uvedenom pražnjenju tinja pri atmosferskom tlaku i pražnjenju tinja s dielektričnom barijerom.
Vrijeme objave: 21. lipnja 2023.