La technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma assisté par fil chaud utilise un pistolet à fil chaud pour émettre un plasma d'arc (abréviation : PECVD). Similaire au dépôt ionique par pistolet à fil chaud, elle diffère : le film solide obtenu par ce dépôt utilise le flux d'électrons émis par le pistolet à fil chaud pour chauffer et évaporer le métal dans le creuset. Le PECVD à fil chaud est alimenté par des gaz de réaction tels que CH4 et H2, utilisés pour le dépôt de films de diamant. Grâce au courant de décharge à haute densité émis par le pistolet à fil chaud, les ions gazeux réactifs sont excités pour obtenir diverses particules actives, notamment des ions gazeux, des ions atomiques, des groupes actifs, etc.
Dans le dispositif PECVD à arc à fil chaud, deux bobines électromagnétiques sont toujours installées à l'extérieur de la chambre de dépôt, ce qui provoque la rotation du flux d'électrons à haute densité lors de son déplacement vers l'anode, augmentant ainsi la probabilité de collision et d'ionisation entre le flux d'électrons et le gaz de réaction. La bobine électromagnétique peut également converger vers une colonne d'arc pour augmenter la densité du plasma dans toute la chambre de dépôt. Dans le plasma d'arc, la densité de ces particules actives est élevée, ce qui facilite le dépôt de films de diamant et d'autres couches de film sur la pièce.
——Cet article a été publié par Guangdong Zhenhua Technology, unefabricant de machines de revêtement optique.
Date de publication : 5 mai 2023