ZHCVD1200

Die Anlage verwendet hauptsächlich chemische Gasphasenabscheidung zur Herstellung von Oxidfilmen, die sich durch eine hohe Abscheidungsrate und hohe Filmqualität auszeichnen. Die Doppeltürkonstruktion verbessert die Klemmwirkung, und ein modernes Flüssiggasversorgungssystem sorgt für einen stabilen und kontrollierbaren Durchfluss und gewährleistet die Prozessstabilität. Der mit der Anlage hergestellte Film weist eine gute Wasserdampfbarriere auf und ist im Siedetest länger stabil.
Das Gerät kann auf Edelstahl, galvanisierte Hardware-/Kunststoffteile, Glas, Keramik und andere Materialien wie elektronische Produkte, LED-Leuchtperlen, medizinisches Zubehör und andere Produkte angewendet werden, die oxidationsbeständig sein müssen. SiOx-Barrierefolien werden hauptsächlich hergestellt, um Wasserdampf effektiv zu blockieren, Korrosion und Oxidation zu verhindern und die Produktlebensdauer zu verbessern.