Technoleg dyddodiad anwedd cemegol plasma wedi'i wella gan arc gwifren boeth

Mae'r dechnoleg dyddodiad anwedd cemegol plasma wedi'i wella gan arc gwifren boeth yn defnyddio'r gwn arc gwifren boeth i allyrru plasma arc, a dalfyrrir fel y dechnoleg PECVD arc gwifren boeth. Mae'r dechnoleg hon yn debyg i'r dechnoleg cotio ïon gwn arc gwifren boeth, ond y gwahaniaeth yw bod y ffilm solet a geir trwy orchuddio ïon gwn arc gwifren boeth yn defnyddio'r llif electron golau arc a allyrrir gan y gwn arc gwifren boeth i gynhesu ac anweddu'r metel yn y croeslin, tra bod y golau arc gwifren boeth PECVD yn cael ei fwydo â nwyon adwaith, fel CH4 a H2, a ddefnyddir ar gyfer dyddodi ffilmiau diemwnt. Trwy ddibynnu ar y cerrynt rhyddhau arc dwysedd uchel a allyrrir gan y gwn arc gwifren boeth, mae'r ïonau nwy adweithiol yn cael eu cyffroi i gael amrywiol ronynnau gweithredol, gan gynnwys ïonau nwy, ïonau atomig, grwpiau gweithredol, ac yn y blaen.

Yn y ddyfais arc gwifren boeth PECVD, mae dau goil electromagnetig yn dal i gael eu gosod y tu allan i'r ystafell orchuddio, gan achosi i'r llif electronau dwysedd uchel gylchdroi yn ystod y symudiad tuag at yr anod, gan gynyddu'r tebygolrwydd o wrthdrawiad ac ïoneiddio rhwng y llif electronau a'r nwy adwaith. Gall y coil electromagnetig hefyd gydgyfeirio i golofn arc i gynyddu dwysedd plasma'r siambr dyddodiad gyfan. Mewn plasma arc, mae dwysedd y gronynnau gweithredol hyn yn uchel, gan ei gwneud hi'n haws dyddodi ffilmiau diemwnt a haenau ffilm eraill ar y darn gwaith.

——Rhyddhawyd yr erthygl hon gan Guangdong Zhenhua Technology, agwneuthurwr peiriannau cotio optegol.