A tecnulugia di deposizione chimica di vapore à plasma rinfurzatu cù arcu à filu caldu usa a pistola à arcu à filu caldu per emette plasma à arcu, abbreviata cum'è tecnulugia PECVD à arcu à filu caldu. Sta tecnulugia hè simile à a tecnulugia di rivestimentu ionicu di a pistola à arcu à filu caldu, ma a differenza hè chì u film solidu ottenutu da u rivestimentu ionicu di a pistola à arcu à filu caldu usa u flussu di elettroni di luce à arcu emessu da a pistola à arcu à filu caldu per riscaldà è evaporà u metallu in u crogiolu, mentre chì a luce à arcu à filu caldu PECVD hè alimentata cù gas di reazione, cum'è CH4 è H2, chì sò aduprati per deposità filmi di diamanti. Affidendu si à a corrente di scarica d'arcu d'alta densità emessa da a pistola à arcu à filu caldu, l'ioni di gas reattivi sò eccitati per ottene varie particelle attive, cumpresi ioni di gas, ioni atomichi, gruppi attivi, ecc.
In u dispusitivu PECVD à arcu à filu caldu, duie bobine elettromagnetiche sò sempre installate fora di a stanza di rivestimentu, ciò chì face chì u flussu di elettroni à alta densità roti durante u muvimentu versu l'anodu, aumentendu a probabilità di collisione è ionizazione trà u flussu di elettroni è u gas di reazione. A bobina elettromagnetica pò ancu cunverge in una colonna d'arcu per aumentà a densità di u plasma di tutta a camera di deposizione. In u plasma à arcu, a densità di queste particelle attive hè alta, ciò chì facilita u depositu di filmi di diamanti è altri strati di film nantu à a pezza.
—— Questu articulu hè statu publicatu da Guangdong Zhenhua Technology, unafabbricante di macchine di rivestimentu otticu.
Data di publicazione: 5 di maghju 2023