Ang metal nga organikong kemikal nga alisngaw nga deposition (MOCVD), ang gigikanan sa gas nga materyal mao ang metal nga organikong compound nga gas, ug ang sukaranan nga proseso sa reaksyon sa pagdeposito parehas sa CVD.
1.MOCVD hilaw nga gas
Ang tinubdan sa gas nga gigamit alang sa MOCVD mao ang metal-organic compound (MOC) gas. Ang mga metal-organic nga compound mao ang mga lig-on nga compound nga gihimo pinaagi sa paghiusa sa mga organikong sangkap sa mga metal. Ang mga organikong compound adunay alkyl, humot. Ang alkyl naglakip sa methyl, ethyl, propyl, ug butyl. Ang alkyl naglakip sa methyl, ethyl, propyl, ug butyl. Aromatic lakip ang phenyl homologues, trimethyl gallium, [Ga(CH3)3], trimethyl aluminum [Al(CH3)3] alang sa deposition sa microelectronics, optoelectronics, semiconductors sa tulo, lima ka compounds sa film layer, sama sa Ga(CH3)3 ug ammonia mahimong naa sa silicon wafer o sapiro sa epitaxial nga pagtubo sa LED lamp sa InGaN luminescent layer. Ang mga lampara sa LED labaw pa sa tungsten incandescent energy-saving 90%, labaw pa sa 60% energy-saving fluorescent lamps. Ang mga lampara sa LED 90% nga mas episyente sa enerhiya kaysa tungsten incandescent lamp ug 60% nga mas episyente sa enerhiya kaysa mga fluorescent lamp. Karong panahona, ang tanang klase sa street lamps, lighting lamps ug automobile lamps basically use LED light-emitting films nga gigama sa MOCVD.
2. Deposition temperatura
Ang temperatura sa pagkadunot sa mga organikong compound sa metal ubos, ug ang temperatura sa pagdeposito mas ubos kaysa sa HCVD. Ang temperatura sa pagdeposito sa TiN nga gideposito sa MOCVD mahimong mapakunhod ngadto sa mga 500 degree.
–Kini nga artikulo gipagawas nivacuum coating machine manufacturerGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Okt-20-2023