(১) স্পুটারিং গ্যাস। স্পুটারিং গ্যাসের বৈশিষ্ট্য থাকা উচিত উচ্চ স্পুটারিং ফলন, লক্ষ্যবস্তুতে নিষ্ক্রিয়, সস্তা, উচ্চ বিশুদ্ধতা পাওয়া সহজ এবং অন্যান্য বৈশিষ্ট্য। সাধারণভাবে বলতে গেলে, আর্গন হল আরও আদর্শ স্পুটারিং গ্যাস।
(২) স্পুটারিং ভোল্টেজ এবং সাবস্ট্রেট ভোল্টেজ। এই দুটি পরামিতি ফিল্মের বৈশিষ্ট্যের উপর গুরুত্বপূর্ণ প্রভাব ফেলে, স্পুটারিং ভোল্টেজ কেবল জমার হারকেই প্রভাবিত করে না, বরং জমা হওয়া ফিল্মের গঠনকেও মারাত্মকভাবে প্রভাবিত করে। সাবস্ট্রেট পটেনশিয়াল সরাসরি মানুষের ইনজেকশনের ইলেকট্রন বা আয়ন প্রবাহকে প্রভাবিত করে। যদি সাবস্ট্রেটটি গ্রাউন্ডেড থাকে, তবে এটি সমতুল্য ইলেকট্রন দ্বারা বোমাবর্ষণ করা হয়; যদি সাবস্ট্রেটটি সাসপেন্ড করা হয়, তবে এটি সাসপেনশন পটেনশিয়াল V1 এর স্থলের তুলনায় সামান্য নেতিবাচক পটেনশিয়াল পেতে গ্লো ডিসচার্জ এলাকায় থাকে এবং সাবস্ট্রেট V2 এর চারপাশে প্লাজমার পটেনশিয়াল সাবস্ট্রেট পটেনশিয়ালের চেয়ে বেশি হয়, যা ইলেকট্রন এবং ধনাত্মক আয়নগুলির উপর একটি নির্দিষ্ট মাত্রার বোমাবর্ষণের জন্ম দেবে, যার ফলে ফিল্মের বেধ, গঠন এবং অন্যান্য বৈশিষ্ট্যগুলিতে পরিবর্তন আসবে: যদি সাবস্ট্রেটটি উদ্দেশ্যমূলকভাবে বায়াস ভোল্টেজ প্রয়োগ করে, যাতে এটি ইলেকট্রন বা আয়নগুলির বৈদ্যুতিক গ্রহণযোগ্যতার পোলারিটির সাথে সঙ্গতিপূর্ণ হয়, তবে কেবল সাবস্ট্রেটটিকে বিশুদ্ধ করতে এবং ফিল্মের আনুগত্য বাড়াতে পারে না, বরং ফিল্মের গঠনও পরিবর্তন করতে পারে। রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি স্পুটারিং আবরণে, কন্ডাক্টর মেমব্রেন প্লাস ডিসি বায়াস প্রস্তুতি: ডাইইলেক্ট্রিক মেমব্রেন প্লাস টিউনিং বায়াস প্রস্তুতি।
(৩) সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা। সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা ফিল্মের অভ্যন্তরীণ চাপের উপর বেশি প্রভাব ফেলে, কারণ তাপমাত্রা সরাসরি সাবস্ট্রেটের উপর জমা হওয়া পরমাণুর কার্যকলাপকে প্রভাবিত করে, ফলে ফিল্মের গঠন, গঠন, গড় শস্যের আকার, স্ফটিকের অবস্থান এবং অসম্পূর্ণতা নির্ধারণ করে।
–এই প্রবন্ধটি প্রকাশিত হয়েছেভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন প্রস্তুতকারকগুয়াংডং জেনহুয়া
পোস্টের সময়: জানুয়ারী-০৫-২০২৪