Die warmdraadboogverbeterde plasma-chemiese dampafsettingstegnologie gebruik die warmdraadbooggeweer om boogplasma uit te straal, afgekort as die warmdraadboog PECVD-tegnologie. Hierdie tegnologie is soortgelyk aan die warmdraadbooggeweer-ioonbedekkingstegnologie, maar die verskil is dat die soliede film wat verkry word deur warmdraadbooggeweer-ioonbedekking die booglig-elektronvloei wat deur die warmdraadbooggeweer uitgestraal word, gebruik om die metaal in die smeltkroes te verhit en te verdamp, terwyl die warmdraadbooglig PECVD gevoed word met reaksiegasse, soos CH4 en H2, wat gebruik word vir die afsetting van diamantfilms. Deur staat te maak op die hoëdigtheid-boogontladingsstroom wat deur die warmdraadbooggeweer uitgestraal word, word die reaktiewe gasione opgewek om verskeie aktiewe deeltjies te verkry, insluitend gasione, atoomione, aktiewe groepe, ensovoorts.
In die warmdraadboog-PECVD-toestel is twee elektromagnetiese spoele steeds buite die bedekkingskamer geïnstalleer, wat veroorsaak dat die hoëdigtheid-elektronvloei roteer tydens die beweging na die anode, wat die waarskynlikheid van botsing en ionisasie tussen die elektronvloei en die reaksiegas verhoog. Die elektromagnetiese spoel kan ook in 'n boogkolom konvergeer om die plasmadigtheid van die hele afsettingskamer te verhoog. In boogplasma is die digtheid van hierdie aktiewe deeltjies hoog, wat dit makliker maak om diamantfilms en ander filmlae op die werkstuk af te sit.
——Hierdie artikel is vrygestel deur Guangdong Zhenhua Technology, 'nvervaardiger van optiese bedekkingsmasjiene.
Plasingstyd: 5 Mei 2023