Phun xạ magnetron phản ứng có nghĩa là khí phản ứng được cung cấp để phản ứng với các hạt phun trong quá trình phun để tạo ra màng hợp chất. Nó có thể cung cấp khí phản ứng để phản ứng với mục tiêu hợp chất phun cùng lúc, và cũng có thể cung cấp khí phản ứng để phản ứng với kim loại hoặc mục tiêu hợp kim phun cùng lúc để tạo ra màng hợp chất với tỷ lệ hóa học nhất định. Đặc điểm của phun xạ magnetron phản ứng để tạo màng hợp chất là:
(1) Vật liệu mục tiêu dùng cho quá trình phun xạ magnetron phản ứng (mục tiêu đơn nguyên tố hoặc mục tiêu đa nguyên tố) và khí phản ứng dễ dàng đạt được độ tinh khiết cao, có lợi cho việc chế tạo màng hợp chất có độ tinh khiết cao.
(2) Trong quá trình phún xạ magnetron phản ứng, bằng cách điều chỉnh các thông số của quá trình lắng đọng, có thể chuẩn bị tỷ lệ hóa học hoặc tỷ lệ không hóa học của màng hợp chất, để đạt được mục đích điều chỉnh các đặc tính của màng bằng cách điều chỉnh thành phần của màng.
(3) Nhiệt độ của chất nền nói chung không quá cao trong quá trình lắng đọng bằng phương pháp phun magnetron phản ứng và quá trình tạo màng thường không yêu cầu chất nền phải được nung nóng đến nhiệt độ rất cao nên có ít hạn chế hơn đối với vật liệu chất nền.
(4) Phun phủ magnetron phản ứng thích hợp cho việc chế tạo màng mỏng đồng nhất diện tích lớn và có thể đạt được sản lượng công nghiệp với sản lượng hàng năm là một triệu mét vuông lớp phủ từ một máy duy nhất. Trong nhiều trường hợp, bản chất của màng có thể thay đổi chỉ bằng cách thay đổi tỷ lệ khí phản ứng với khí trơ trong quá trình phun phủ. Ví dụ, màng có thể thay đổi từ kim loại sang bán dẫn hoặc phi kim loại.
——Bài viết này cónhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa phát hành
Thời gian đăng: 31-08-2023