Susū mai i le Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
fu'a_tasi

Fa'ailoaina o ata manifinifi tu'ufa'atasia na saunia e ala i le reactive magnetron sputtering

Punaoa o le tusiga: Zhenhua vacuum
Faitau:10
Lomia:23-08-31

O le reactive magnetron sputtering o lona uiga o le tuʻuina atu o le kesi reactive e tali atu ai ma ni vaega sputtering i le faagasologa o le sputtering e maua ai se ata tifaga tuʻufaʻatasi. E mafai ona tuʻuina atu le kesi reactive e tali atu ai ma le sputtering compound target i le taimi e tasi, ma e mafai foʻi ona tuʻuina atu le kesi reactive e tali atu ai ma le sputtering metal poʻo le alloy target i le taimi e tasi e saunia ai se ata tifaga tuʻufaʻatasi ma se fua faʻatatau vailaʻau. O uiga o le reactive magnetron sputtering e saunia ai ata tifaga tuʻufaʻatasi o:

 

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(1) O mea fa'atatau e fa'aaogaina mo le reactive magnetron sputtering (tasi elemene po'o le tele o elemene) ma kasa fa'atatau e faigofie ona maua le mama maualuga, lea e fesoasoani i le sauniaina o ata tifaga tu'ufa'atasi mama maualuga.

(2) I le reactive magnetron sputtering, e ala i le fetu'una'i o le fa'agasologa o le deposition, e mafai ona saunia le fua fa'atatau fa'akemikolo po'o le fua fa'atatau e le o ni vaila'au o ata tifaga tu'ufa'atasi, ina ia ausia ai le fa'amoemoega o le fa'atonutonuina o uiga o ata tifaga e ala i le fetu'una'i o le tu'ufa'atasiga o le ata tifaga.

(3) E masani lava e le maualuga tele le vevela o le substrate i le taimi o le reactive magnetron sputtering deposition process, ma o le faiga o le fausiaina o ata tifaga e masani lava e le manaʻomia ai le faʻavevela o le substrate i ni vevela maualuluga tele, o lea e itiiti ai tapulaʻa i mea o le substrate.

(4) O le reactive magnetron sputtering e talafeagai mo le sauniaina o ni ata manifinifi e tutusa i vaega tetele, ma e mafai ona ausia ai le gaosiga fa'apisinisi ma se gaosiga fa'aletausaga e tasi le miliona mita sikuea o le ufiufi mai se masini e tasi. I le tele o tulaga, e mafai ona suia le natura o le ata e ala i le suia o le fua faatatau o le kesi reactive i le kesi inert i le taimi o le sputtering. Mo se fa'ata'ita'iga, e mafai ona suia le ata mai le u'amea i le semiconductor po'o le le o se u'amea.

——O lenei tusiga e iaigaosi oloa masini ufiufi vacuumNa tatala e Guangdong Zhenhua


Taimi na lafoina ai: Aokuso-31-2023