반응성 마그네트론 스퍼터링이란 스퍼터링 과정에서 스퍼터링된 입자와 반응하는 반응성 가스를 공급하여 복합막을 형성하는 공정을 말합니다. 이 공정은 스퍼터링 대상 화합물과 반응하는 반응성 가스를 동시에 공급할 수도 있고, 스퍼터링 대상 금속 또는 합금과 반응하는 반응성 가스를 동시에 공급하여 특정 화학 조성비의 복합막을 제조할 수도 있습니다. 반응성 마그네트론 스퍼터링을 이용한 복합막 제조의 특징은 다음과 같습니다.
(1) 반응성 마그네트론 스퍼터링에 사용되는 타겟 재료(단일 원소 타겟 또는 다중 원소 타겟) 및 반응 가스는 고순도를 쉽게 얻을 수 있어 고순도 화합물 박막 제조에 유리합니다.
(2) 반응성 마그네트론 스퍼터링에서는 증착 공정 매개변수를 조정하여 화학적 비율 또는 비화학적 비율의 복합막을 제조할 수 있으므로 막의 조성을 조정하여 막의 특성을 조절하는 목적을 달성할 수 있습니다.
(3) 반응성 마그네트론 스퍼터링 증착 공정 동안 기판의 온도는 일반적으로 너무 높지 않으며, 필름 형성 공정은 일반적으로 기판을 매우 높은 온도로 가열할 필요가 없으므로 기판 재료에 대한 제약이 적습니다.
(4) 반응성 마그네트론 스퍼터링은 대면적의 균일한 박막 제조에 적합하며, 단일 장비로 연간 백만 제곱미터의 코팅 생산량을 달성하는 산업화된 생산이 가능하다. 많은 경우, 스퍼터링 중 반응성 가스와 불활성 가스의 비율을 간단히 변경함으로써 박막의 성질을 바꿀 수 있다. 예를 들어, 금속 박막을 반도체 또는 비금속 박막으로 변경할 수 있다.
이 기사는진공 코팅기 제조업체광둥진화(Guangdong Zhenhua) 출시
게시 시간: 2023년 8월 31일