रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग म्हणजे स्पटरिंगच्या प्रक्रियेत स्पटर झालेल्या कणांशी अभिक्रिया करण्यासाठी रिॲक्टिव्ह वायू पुरवला जातो, ज्यामुळे एक संयुक्त फिल्म तयार होते. यात स्पटरिंग संयुक्त टार्गेटशी अभिक्रिया करण्यासाठी एकाच वेळी रिॲक्टिव्ह वायू पुरवला जाऊ शकतो, आणि दिलेल्या रासायनिक गुणोत्तरासह संयुक्त फिल्म तयार करण्यासाठी स्पटरिंग धातू किंवा मिश्रधातूच्या टार्गेटशी अभिक्रिया करण्यासाठी एकाच वेळी रिॲक्टिव्ह वायू पुरवला जाऊ शकतो. संयुक्त फिल्म तयार करण्यासाठी रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंगची वैशिष्ट्ये खालीलप्रमाणे आहेत:
(1) रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंगसाठी वापरण्यात येणारे लक्ष्य साहित्य (एकल घटक लक्ष्य किंवा बहु-घटक लक्ष्य) आणि प्रतिक्रिया वायू उच्च शुद्धतेमध्ये मिळवणे सोपे आहे, जे उच्च-शुद्धतेच्या संयुक्त फिल्म्सच्या तयारीसाठी अनुकूल आहे.
(2) रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंगमध्ये, डिपॉझिशन प्रक्रियेचे पॅरामीटर्स समायोजित करून, रासायनिक गुणोत्तर किंवा गैर-रासायनिक गुणोत्तराचे संयुक्त फिल्म्स तयार केले जाऊ शकतात, जेणेकरून फिल्मची रचना समायोजित करून फिल्मची वैशिष्ट्ये नियंत्रित करण्याचा उद्देश साध्य करता येतो.
(3) रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग डिपॉझिशन प्रक्रियेदरम्यान सबस्ट्रेटचे तापमान सामान्यतः खूप जास्त नसते आणि फिल्म तयार करण्याच्या प्रक्रियेत सहसा सबस्ट्रेटला खूप उच्च तापमानापर्यंत गरम करण्याची आवश्यकता नसते, त्यामुळे सबस्ट्रेट मटेरियलवर कमी निर्बंध असतात.
(4) रिॲक्टिव्ह मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग हे मोठ्या क्षेत्रावरील एकसमान पातळ फिल्म्स तयार करण्यासाठी योग्य आहे, आणि एकाच मशीनमधून वार्षिक दहा लाख चौरस मीटर कोटिंगच्या उत्पादनासह औद्योगिक उत्पादन साध्य करू शकते. बऱ्याच प्रकरणांमध्ये, स्पटरिंग दरम्यान रिॲक्टिव्ह वायू आणि इनर्ट वायू यांचे प्रमाण बदलून फिल्मचे स्वरूप बदलता येते. उदाहरणार्थ, फिल्म धातूपासून सेमीकंडक्टर किंवा अधातूमध्ये बदलता येते.
या लेखातव्हॅक्यूम कोटिंग मशीन उत्पादकग्वांगडोंग झेनहुआ जारी
पोस्ट करण्याची वेळ: ३१ ऑगस्ट २०२३