تعني عملية الترسيب بالرش المغنطروني التفاعلي تزويد الجسيمات المتناثرة بغاز تفاعلي أثناء عملية الترسيب لإنتاج طبقة مركبة. يمكن لهذه العملية تزويد الغاز التفاعلي للتفاعل مع هدف الترسيب المركب في آنٍ واحد، كما يمكن تزويده للتفاعل مع هدف الترسيب المعدني أو السبيكي في الوقت نفسه، وذلك لتحضير طبقة مركبة بنسبة كيميائية محددة. وتتمثل خصائص الترسيب بالرش المغنطروني التفاعلي لتحضير الطبقات المركبة فيما يلي:
(1) من السهل الحصول على مواد الهدف المستخدمة في الترسيب المغناطيسي التفاعلي (هدف عنصر واحد أو هدف متعدد العناصر) وغازات التفاعل بدرجة نقاء عالية، مما يساعد على تحضير أغشية مركبة عالية النقاء.
(2) في عملية الترسيب المغناطيسي التفاعلي، من خلال ضبط معلمات عملية الترسيب، يمكن تحضير نسبة كيميائية أو نسبة غير كيميائية من الأغشية المركبة، وذلك لتحقيق الغرض من تنظيم خصائص الفيلم عن طريق ضبط تركيب الفيلم.
(3) لا تكون درجة حرارة الركيزة مرتفعة بشكل عام أثناء عملية الترسيب بالرش المغناطيسي التفاعلي، وعادة لا تتطلب عملية تشكيل الفيلم تسخين الركيزة إلى درجات حرارة عالية جدًا، لذلك هناك قيود أقل على مادة الركيزة.
(4) يُعدّ الترسيب بالرش المغنطروني التفاعلي مناسبًا لتحضير أغشية رقيقة متجانسة ذات مساحة كبيرة، ويمكن استخدامه في الإنتاج الصناعي بطاقة إنتاجية سنوية تصل إلى مليون متر مربع من الطلاء باستخدام جهاز واحد. في كثير من الحالات، يمكن تغيير طبيعة الغشاء ببساطة عن طريق تغيير نسبة الغاز التفاعلي إلى الغاز الخامل أثناء عملية الترسيب. على سبيل المثال، يمكن تحويل الغشاء من معدن إلى شبه موصل أو لا فلز.
——هذه المقالة تحتوي علىمصنع آلات الطلاء بالتفريغالافراج عن قوانغدونغ تشن هوا
تاريخ النشر: 31 أغسطس 2023