Percikan magnetron reaktif bermaksud gas reaktif dibekalkan untuk bertindak balas dengan zarah-zarah yang terpercik dalam proses percikan untuk menghasilkan filem sebatian. Ia boleh membekalkan gas reaktif untuk bertindak balas dengan sasaran sebatian percikan pada masa yang sama, dan juga boleh membekalkan gas reaktif untuk bertindak balas dengan sasaran logam atau aloi percikan pada masa yang sama untuk menyediakan filem sebatian dengan nisbah kimia tertentu. Ciri-ciri percikan magnetron reaktif untuk menyediakan filem sebatian adalah:
(1) Bahan sasaran yang digunakan untuk percikan magnetron reaktif (sasaran elemen tunggal atau sasaran berbilang elemen) dan gas tindak balas mudah diperoleh dengan ketulenan tinggi, yang kondusif untuk penyediaan filem sebatian ketulenan tinggi.
(2) Dalam percikan magnetron reaktif, dengan melaraskan parameter proses pemendapan, nisbah kimia atau nisbah bukan kimia filem sebatian boleh disediakan, untuk mencapai tujuan mengawal selia ciri-ciri filem dengan melaraskan komposisi filem.
(3) Suhu substrat secara amnya tidak terlalu tinggi semasa proses pemendapan percikan magnetron reaktif, dan proses pembentukan filem biasanya tidak memerlukan substrat dipanaskan pada suhu yang sangat tinggi, jadi terdapat lebih sedikit sekatan pada bahan substrat.
(4) Percikan magnetron reaktif sesuai untuk penyediaan filem nipis homogen kawasan luas, dan boleh mencapai pengeluaran perindustrian dengan output tahunan sebanyak satu juta meter persegi salutan daripada satu mesin. Dalam banyak kes, sifat filem boleh diubah dengan hanya mengubah nisbah gas reaktif kepada gas lengai semasa percikan. Contohnya, filem boleh ditukar daripada logam kepada semikonduktor atau bukan logam.
——Artikel ini mempunyaipengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua dilepaskan
Masa siaran: 31 Ogos 2023