ZHCVD1200

Ang kagamitan ay pangunahing gumagamit ng chemical vapor deposition upang maghanda ng oxide film, na may mga katangian ng mabilis na deposition rate at mataas na kalidad ng pelikula. Tulad ng para sa istraktura ng kagamitan, ang istraktura ng dobleng pinto ay ginagamit upang mapabuti ang kahusayan ng pag-clamping, at ang pinakabagong sistema ng supply ng likidong gas ay pinagtibay upang matiyak ang matatag at nakokontrol na daloy at epektibong matiyak ang katatagan ng proseso. Ang pelikulang inihanda ng kagamitan ay may magandang water vapor barrier at mas mahabang stable period sa boiling test.
Ang kagamitan ay maaaring ilapat sa hindi kinakalawang na asero, electroplated hardware / plastic parts, salamin, keramika at iba pang mga materyales, tulad ng mga produktong elektroniko, LED light beads, mga medikal na suplay at iba pang mga produkto na nangangailangan ng oxidation resistance. Ang SiOx barrier film ay pangunahing inihanda upang epektibong harangan ang singaw ng tubig, maiwasan ang kaagnasan at oksihenasyon, at mapabuti ang buhay ng produkto.