Реактивно магнетронско распршивање значи да се реактивни гас доводи да реагује са распршеним честицама у процесу распршивања како би се произвео сложени филм. Може да доводи реактивни гас да реагује са сложеним циљем распршивања у исто време, а такође може да доводи реактивни гас да реагује са металом или легуром који се распршује у исто време како би се припремио сложени филм са датим хемијским односом. Карактеристике реактивног магнетронског распршивања за припрему сложених филмова су:
(1) Циљни материјали који се користе за реактивно магнетронско распршивање (мета са једним елементом или мета са више елемената) и реакциони гасови се лако добијају високе чистоће, што је погодно за припрему високочистих једињених филмова.
(2) Код реактивног магнетронског распршивања, подешавањем параметара процеса таложења, могу се припремити хемијски однос или нехемијски однос једињења филмова, како би се постигао циљ регулисања карактеристика филма подешавањем састава филма.
(3) Температура подлоге генерално није превисока током процеса реактивног магнетронског распршивања, а процес формирања филма обично не захтева загревање подлоге на веома високе температуре, тако да постоји мање ограничења у погледу материјала подлоге.
(4) Реактивно магнетронско распршивање је погодно за припрему хомогених танких филмова велике површине и може постићи индустријску производњу са годишњим капацитетом од милион квадратних метара премаза из једне машине. У многим случајевима, природа филма може се променити једноставном променом односа реактивног гаса и инертног гаса током распршивања. На пример, филм се може променити из металног у полупроводнички или неметални.
——Овај чланак имапроизвођач машина за вакуумско премазивањеГуангдонг Џенхуа ослобођен
Време објаве: 31. август 2023.