Reaktívne magnetrónové naprašovanie znamená, že sa v procese naprašovania privádza reaktívny plyn, ktorý reaguje s naprašovanými časticami a vytvára zložený film. Môže súčasne dodávať reaktívny plyn, ktorý reaguje s naprašovaným zloženým terčom, a tiež môže dodávať reaktívny plyn, ktorý súčasne reaguje s naprašovaným kovovým alebo zliatinovým terčom, čím sa pripraví zložený film s daným chemickým pomerom. Charakteristiky reaktívneho magnetrónového naprašovania na prípravu zložených filmov sú:
(1) Cieľové materiály používané na reaktívne magnetrónové naprašovanie (jednoprvkový alebo viacprvkový terč) a reakčné plyny sa dajú ľahko dosiahnuť vysokou čistotou, čo vedie k príprave vysoko čistých zložených filmov.
(2) Pri reaktívnom magnetrónovom naprašovaní je možné úpravou parametrov procesu nanášania pripraviť chemické alebo nechemické pomery zložených vrstiev, aby sa dosiahol účel regulácie charakteristík vrstvy úpravou zloženia vrstvy.
(3) Teplota substrátu počas procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania vo všeobecnosti nie je príliš vysoká a proces tvorby filmu zvyčajne nevyžaduje zahrievanie substrátu na veľmi vysoké teploty, takže existuje menej obmedzení týkajúcich sa materiálu substrátu.
(4) Reaktívne magnetrónové naprašovanie je vhodné na prípravu homogénnych tenkých vrstiev s veľkou plochou a umožňuje dosiahnuť priemyselnú výrobu s ročnou kapacitou jedného milióna štvorcových metrov povlaku z jedného stroja. V mnohých prípadoch je možné zmeniť povahu vrstvy jednoduchou zmenou pomeru reaktívneho plynu k inertnému plynu počas naprašovania. Napríklad, vrstva sa môže zmeniť z kovu na polovodič alebo nekov.
——Tento článok mávýrobca vákuových lakovacích strojovGuangdong Zhenhua prepustený
Čas uverejnenia: 31. augusta 2023