Pulverizarea magnetronică reactivă înseamnă că se furnizează gaz reactiv pentru a reacționa cu particulele pulverizate în procesul de pulverizare pentru a produce o peliculă compusă. Se poate furniza gaz reactiv pentru a reacționa simultan cu ținta compusului pulverizat și, de asemenea, se poate furniza gaz reactiv pentru a reacționa simultan cu metalul sau aliajul pulverizat pentru a prepara o peliculă compusă cu un raport chimic dat. Caracteristicile pulverizării magnetronice reactive pentru prepararea peliculelor compuse sunt:
(1) Materialele țintă utilizate pentru pulverizarea magnetronică reactivă (țintă cu un singur element sau țintă cu mai multe elemente) și gazele de reacție sunt ușor de obținut cu o puritate ridicată, ceea ce conduce la prepararea peliculelor compuse de înaltă puritate.
(2) În pulverizarea magnetronică reactivă, prin ajustarea parametrilor procesului de depunere, se poate prepara raportul chimic sau nechimic al peliculelor compuse, astfel încât să se atingă scopul de a regla caracteristicile peliculei prin ajustarea compoziției acesteia.
(3) Temperatura substratului nu este, în general, prea ridicată în timpul procesului de depunere prin pulverizare magnetronică reactivă, iar procesul de formare a peliculei nu necesită, de obicei, încălzirea substratului la temperaturi foarte ridicate, astfel încât există mai puține restricții privind materialul substratului.
(4) Pulverizarea magnetronică reactivă este potrivită pentru prepararea peliculelor subțiri omogene pe suprafețe mari și poate realiza o producție industrializată cu o producție anuală de un milion de metri pătrați de acoperire dintr-o singură mașină. În multe cazuri, natura peliculei poate fi schimbată prin simpla modificare a raportului dintre gazul reactiv și gazul inert în timpul pulverizării. De exemplu, pelicula poate fi transformată din metal în semiconductor sau nemetal.
——Acest articol areproducător de mașini de acoperire în vidGuangdong Zhenhua eliberat
Data publicării: 31 august 2023