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Caracterização de filmes finos compostos preparados por pulverização catódica reativa de magnetron

Fonte do artigo: aspirador de pó Zhenhua
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Publicado: 23-08-31

A pulverização catódica reativa por magnetron significa que gás reativo é fornecido para reagir com partículas pulverizadas durante o processo de pulverização catódica, produzindo um filme composto. A pulverização catódica reativa por magnetron pode ser fornecida para reagir com o composto alvo da pulverização catódica simultaneamente, e também pode ser fornecida para reagir com o metal ou liga alvo da pulverização catódica simultaneamente, preparando um filme composto com uma determinada proporção química. As características da pulverização catódica reativa por magnetron para preparar filmes compostos são:

 

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(1) Os materiais alvo usados ​​para pulverização catódica reativa de magnetron (alvo de elemento único ou alvo de múltiplos elementos) e gases de reação são fáceis de obter alta pureza, o que é propício para a preparação de filmes compostos de alta pureza.

(2) Na pulverização catódica reativa de magnetron, ajustando os parâmetros do processo de deposição, a proporção química ou não química de filmes compostos pode ser preparada, de modo a atingir o objetivo de regular as características do filme ajustando a composição do filme.

(3) A temperatura do substrato geralmente não é muito alta durante o processo de deposição de pulverização catódica reativa do magnetron, e o processo de formação do filme geralmente não requer que o substrato seja aquecido a temperaturas muito altas, portanto, há menos restrições quanto ao material do substrato.

(4) A pulverização catódica reativa por magnetron é adequada para a preparação de filmes finos homogêneos de grande área, podendo atingir a produção industrializada com uma produção anual de um milhão de metros quadrados de revestimento a partir de uma única máquina. Em muitos casos, a natureza do filme pode ser alterada simplesmente alterando a proporção de gás reativo para gás inerte durante a pulverização catódica. Por exemplo, o filme pode ser alterado de metálico para semicondutor ou não metálico.

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Data de publicação: 31 de agosto de 2023