१. आयन बीम असिस्टेड डिपोजिसनले मुख्यतया सामग्रीको सतह परिमार्जनमा सहयोग गर्न कम ऊर्जा आयन बीमहरू प्रयोग गर्दछ।
(१) आयन सहायक निक्षेपणका विशेषताहरू
कोटिंग प्रक्रियाको क्रममा, जम्मा गरिएका फिल्म कणहरूलाई चार्ज गरिएको आयन बीमले लेपित गर्दा सब्सट्रेटको सतहमा आयन स्रोतबाट चार्ज गरिएको आयनहरूले निरन्तर बमबारी गर्छन्।
(२) आयन सहायक निक्षेपणको भूमिका
उच्च ऊर्जा आयनहरूले कुनै पनि समयमा खुकुलो रूपमा बाँधिएको फिल्म कणहरूमा बमबारी गर्छन्; ऊर्जा स्थानान्तरण गरेर, जम्मा गरिएका कणहरूले बढी गतिज ऊर्जा प्राप्त गर्छन्, जसले गर्दा न्यूक्लिएसन र वृद्धिको नियममा सुधार हुन्छ; कुनै पनि समयमा झिल्लीको तन्तुमा कम्प्याक्शन प्रभाव उत्पादन गर्नुहोस्, जसले गर्दा फिल्म अझ घना रूपमा बढ्छ; यदि प्रतिक्रियाशील ग्यास आयनहरू इन्जेक्ट गरिन्छ भने, सामग्रीको सतहमा स्टोइचियोमेट्रिक यौगिक तह बन्न सक्छ, र यौगिक तह र सब्सट्रेट बीच कुनै अन्तरक्रिया हुँदैन।
२. आयन बीम असिस्टेड डिपोजिसनको लागि आयन स्रोत
आयन बीम असिस्टेड डिपोजिसनको विशेषता भनेको फिल्म लेयर एटमहरू (डिपोजिसन कणहरू) लाई सब्सट्रेटको सतहमा आयन स्रोतबाट कम ऊर्जा आयनहरूले निरन्तर बमबारी गर्छन्, जसले फिल्म संरचनालाई धेरै बाक्लो बनाउँछ र फिल्म लेयरको कार्यसम्पादनमा सुधार ल्याउँछ। आयन बीमको ऊर्जा E ≤ 500eV छ। सामान्यतया प्रयोग हुने आयन स्रोतहरूमा समावेश छन्: काउफम्यान आयन स्रोत, हल आयन स्रोत, एनोड तह आयन स्रोत, खोक्रो क्याथोड हल आयन स्रोत, रेडियो फ्रिक्वेन्सी आयन स्रोत, आदि।
पोस्ट समय: जुन-३०-२०२३