प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङ भनेको प्रतिक्रियाशील ग्यासलाई स्पटरिङको प्रक्रियामा स्पटरिङ कणहरूसँग प्रतिक्रिया गर्न आपूर्ति गरिन्छ जसले यौगिक फिल्म उत्पादन गर्दछ। यसले एकै समयमा स्पटरिङ यौगिक लक्ष्यसँग प्रतिक्रिया गर्न प्रतिक्रियाशील ग्यास आपूर्ति गर्न सक्छ, र दिइएको रासायनिक अनुपातको साथ यौगिक फिल्म तयार गर्न एकै समयमा स्पटरिङ धातु वा मिश्र धातु लक्ष्यसँग प्रतिक्रिया गर्न प्रतिक्रियाशील ग्यास पनि आपूर्ति गर्न सक्छ। यौगिक फिल्महरू तयार गर्न प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङका विशेषताहरू हुन्:
(१) प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङ (एकल तत्व लक्ष्य वा बहु-तत्व लक्ष्य) र प्रतिक्रिया ग्याँसहरूको लागि प्रयोग हुने लक्षित सामग्रीहरू उच्च शुद्धता प्राप्त गर्न सजिलो छन्, जुन उच्च-शुद्धता यौगिक फिल्महरूको तयारीको लागि अनुकूल छ।
(२) प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङमा, निक्षेप प्रक्रिया प्यारामिटरहरू समायोजन गरेर, यौगिक फिल्महरूको रासायनिक अनुपात वा गैर-रासायनिक अनुपात तयार गर्न सकिन्छ, ताकि फिल्मको संरचना समायोजन गरेर फिल्म विशेषताहरू नियमन गर्ने उद्देश्य प्राप्त गर्न सकियोस्।
(३) प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङ निक्षेपण प्रक्रियाको समयमा सब्सट्रेटको तापक्रम सामान्यतया धेरै उच्च हुँदैन, र फिल्म बनाउने प्रक्रियामा सामान्यतया सब्सट्रेटलाई धेरै उच्च तापक्रममा तताउन आवश्यक पर्दैन, त्यसैले सब्सट्रेट सामग्रीमा कम प्रतिबन्धहरू हुन्छन्।
(४) प्रतिक्रियाशील म्याग्नेट्रोन स्पटरिङ ठूलो क्षेत्रफलको एकरूप पातलो फिल्महरूको तयारीको लागि उपयुक्त छ, र एउटै मेसिनबाट वार्षिक दस लाख वर्ग मिटर कोटिंगको उत्पादनको साथ औद्योगिक उत्पादन प्राप्त गर्न सक्छ। धेरै अवस्थामा, स्पटरिङको समयमा प्रतिक्रियाशील ग्यासको निष्क्रिय ग्यासमा अनुपात परिवर्तन गरेर फिल्मको प्रकृति परिवर्तन गर्न सकिन्छ। उदाहरणका लागि, फिल्मलाई धातुबाट अर्धचालक वा गैर-धातुमा परिवर्तन गर्न सकिन्छ।
——यस लेखमा छभ्याकुम कोटिंग मेसिन निर्माताGuangdong Zhenhua जारी
पोस्ट समय: अगस्ट-३१-२०२३