Sputtering reattiv tal-manjetron ifisser li l-gass reattiv jiġi fornut biex jirreaġixxi mal-partiċelli sputterizzati fil-proċess tal-isputtering biex jipproduċi film kompost. Jista' jipprovdi gass reattiv biex jirreaġixxi mal-mira tal-kompost tal-isputtering fl-istess ħin, u jista' wkoll jipprovdi gass reattiv biex jirreaġixxi mal-mira tal-metall jew liga tal-isputtering fl-istess ħin biex jipprepara film kompost b'proporzjon kimiku partikolari. Il-karatteristiċi tal-isputtering reattiv tal-manjetron biex jipprepara films komposti huma:
(1) Il-materjali fil-mira użati għall-isputtering tal-manjetron reattiv (mira b'element wieħed jew mira b'ħafna elementi) u l-gassijiet ta' reazzjoni huma faċli biex tinkiseb purità għolja, li hija favorevoli għall-preparazzjoni ta' films komposti ta' purità għolja.
(2) Fl-isputtering reattiv tal-manjetron, billi jiġu aġġustati l-parametri tal-proċess ta' depożizzjoni, jista' jiġi ppreparat proporzjon kimiku jew proporzjon mhux kimiku ta' films komposti, sabiex jinkiseb l-iskop li jiġu rregolati l-karatteristiċi tal-film billi tiġi aġġustata l-kompożizzjoni tal-film.
(3) It-temperatura tas-sottostrat ġeneralment mhijiex għolja wisq matul il-proċess ta' depożizzjoni reattiva permezz ta' sputtering tal-manjetron, u l-proċess tal-formazzjoni tal-film ġeneralment ma jeħtieġx li s-sottostrat jissaħħan għal temperaturi għoljin ħafna, għalhekk hemm inqas restrizzjonijiet fuq il-materjal tas-sottostrat.
(4) L-isputtering reattiv tal-manjetron huwa adattat għall-preparazzjoni ta' films irqaq omoġenji ta' erja kbira, u jista' jikseb produzzjoni industrijalizzata b'output annwali ta' miljun metru kwadru ta' kisi minn magna waħda. F'ħafna każijiet, in-natura tal-film tista' tinbidel sempliċement billi jinbidel il-proporzjon tal-gass reattiv għall-gass inert waqt l-isputtering. Pereżempju, il-film jista' jinbidel minn metall għal semikonduttur jew mhux metall.
——Dan l-artiklu għandumanifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwuGuangdong Zhenhua rilaxxat
Ħin tal-posta: 31 ta' Awwissu 2023