१. आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनमध्ये प्रामुख्याने कमी उर्जेच्या आयन बीमचा वापर करून सामग्रीच्या पृष्ठभागावरील बदल करण्यास मदत केली जाते.
(१) आयन सहाय्यक निक्षेपणाची वैशिष्ट्ये
कोटिंग प्रक्रियेदरम्यान, जमा झालेल्या फिल्म कणांवर सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावरील आयन स्त्रोताकडून चार्ज केलेल्या आयनांचा सतत मारा केला जातो आणि त्यांच्यावर चार्ज केलेल्या आयन बीमचा लेप असतो.
(२) आयन सहाय्यक निक्षेपणाची भूमिका
उच्च ऊर्जा आयन कोणत्याही वेळी सैलपणे बांधलेल्या फिल्म कणांवर भडिमार करतात; ऊर्जा हस्तांतरित करून, जमा केलेले कण अधिक गतिज ऊर्जा मिळवतात, ज्यामुळे न्यूक्लिएशन आणि वाढीचा नियम सुधारतो; कोणत्याही वेळी पडद्याच्या ऊतींवर कॉम्पॅक्शन प्रभाव निर्माण करतात, ज्यामुळे फिल्म अधिक घनतेने वाढते; जर प्रतिक्रियाशील वायू आयन इंजेक्ट केले गेले तर, सामग्रीच्या पृष्ठभागावर एक स्टोइचियोमेट्रिक कंपाऊंड थर तयार होऊ शकतो आणि कंपाऊंड थर आणि सब्सट्रेटमध्ये कोणताही इंटरफेस नसतो.
२. आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनसाठी आयन स्रोत
आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनचे वैशिष्ट्य म्हणजे फिल्म लेयर अणू (डिपॉझिशन कण) वर सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावरील आयन स्त्रोताकडून कमी ऊर्जा असलेल्या आयनांचा सतत मारा केला जातो, ज्यामुळे फिल्म रचना खूप दाट होते आणि फिल्म लेयरची कार्यक्षमता सुधारते. आयन बीमची ऊर्जा E ≤ 500eV आहे. सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या आयन स्त्रोतांमध्ये हे समाविष्ट आहे: कॉफमन आयन स्रोत, हॉल आयन स्रोत, एनोड लेयर आयन स्रोत, पोकळ कॅथोड हॉल आयन स्रोत, रेडिओ फ्रिक्वेन्सी आयन स्रोत इ.
पोस्ट वेळ: जून-३०-२०२३