ZHCVD1200

Опремата главно користи хемиско таложење на пареа за подготовка на оксиден филм, кој има карактеристики на брза стапка на таложење и висок квалитет на филмот. Што се однесува до структурата на опремата, структурата со двојна врата се користи за подобрување на ефикасноста на стегање, а е усвоен и најнов систем за снабдување со течен гас за да се обезбеди стабилен и контролиран проток и ефикасно да се обезбеди стабилност на процесот. Филмот подготвен од опремата има добра бариера на водена пареа и подолг стабилен период при тест на вриење.
Опремата може да се нанесува на не'рѓосувачки челик, електрогалванизирани хардверски/пластични делови, стакло, керамика и други материјали, како што се електронски производи, LED светлосни зрна, медицински потрошен материјал и други производи на кои им е потребна отпорност на оксидација. SiOx бариерниот филм е главно подготвен за ефикасно блокирање на водената пареа, спречување на корозија и оксидација и подобрување на животниот век на производот.