1. Jonų pluošto pagalba nusodinant daugiausia naudojami mažos energijos jonų pluoštai, siekiant padėti modifikuoti medžiagų paviršių.
(1) Jonų pagalba atliekamo nusodinimo charakteristikos
Dengimo proceso metu nusodintos plėvelės dalelės yra nuolat bombarduojamos įkrautais jonais iš jonų šaltinio, esančio ant pagrindo paviršiaus, tuo pačiu metu dengiant įkrautais jonų pluoštais.
(2) Jonų pagalba atliekamo nusodinimo vaidmuo
Didelės energijos jonai bet kuriuo metu bombarduoja laisvai surištas plėvelės daleles; perduodant energiją, nusodintos dalelės įgyja didesnę kinetinę energiją, taip pagerindamos branduolio susidarymo ir augimo dėsnį; bet kuriuo metu sukelia membraninio audinio sutankinimo efektą, todėl plėvelė tampa tankesnė; įpurškus reaktyviųjų dujų jonus, medžiagos paviršiuje gali susidaryti stechiometrinis junginio sluoksnis, ir nėra sąsajos tarp junginio sluoksnio ir substrato.
2. Jonų šaltinis jonų pluošto pagalba nusodinimui
Jonų pluošto pagalba nusodinimo charakteristika yra ta, kad plėvelės sluoksnio atomai (nusodinimo dalelės) yra nuolat bombarduojami mažos energijos jonais iš jonų šaltinio, esančio ant pagrindo paviršiaus, todėl plėvelės struktūra tampa labai tanki ir pagerėja plėvelės sluoksnio charakteristikos. Jonų pluošto energija E yra ≤ 500 eV. Dažniausiai naudojami jonų šaltiniai: Kauffmano jonų šaltinis, Holo jonų šaltinis, anodo sluoksnio jonų šaltinis, tuščiavidurio katodo Holo jonų šaltinis, radijo dažnių jonų šaltinis ir kt.
Įrašo laikas: 2023 m. birželio 30 d.