ვაკუუმური საფარის ტექნოლოგიას რამდენიმე ძირითადი უპირატესობა აქვს, მათ შორის გარემოსდაცვითი კეთილგანწყობა, მაღალი ეფექტურობა, შესანიშნავი ფენის ერთგვაროვნება და საფარის უმაღლესი სიმკვრივე. ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა ზოგადად შეიძლება კლასიფიცირდეს შემდეგ ტიპებად:
1. ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) აღჭურვილობა
1.1 ვაკუუმური აორთქლების საფარის აღჭურვილობა
ვაკუუმური აორთქლების საფარი ძირითადად მოიცავს: წინააღმდეგობის გაცხელებით აორთქლებას; ელექტრონული სხივის აორთქლებას, ასევე ცნობილია, როგორც E-სხივის აორთქლება.
1.2 გაფრქვევით საფარის აღჭურვილობა
გაფრქვევით საფარის აღჭურვილობა ძირითადად მოიცავს: DC გაფრქვევას; RF გაფრქვევას; საშუალო სიხშირის გაფრქვევას.
1.3 იონური მოპირკეთების აღჭურვილობა
იონური მოპირკეთების აღჭურვილობა ძირითადად მოიცავს: კათოდური რკალის იონურ მოპირკეთებას
2. ქიმიური ორთქლის დეპონირების (CVD) აღჭურვილობა
ქიმიური ორთქლის დეპონირების მოწყობილობები შეიძლება კლასიფიცირდეს შემდეგ ტიპებად:
2.1 ატმოსფერული წნევის ქიმიური ორთქლის დეპონირება (APCVD)
2.2 დაბალი წნევის ქიმიური ორთქლის დეპონირება (LPCVD)
2.3 პლაზმით გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირება (PECVD)
2.4 ლითონის ორგანული ქიმიური ორთქლის დეპონირება (MOCVD)
2.5 ატომური ფენის დეპონირება (ALD)
გამოყენების ინდუსტრიები
ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა ფართოდ გამოიყენება სხვადასხვა ინდუსტრიაში, მათ შორის: ნახევარგამტარებში, ახალ ენერგიაში, დრონებში, ჭკვიან ტარებად მოწყობილობებში, ოპტიკურ ლინზებში, ავტომობილებში, ელექტრონიკაში, ავეჯსა და საყოფაცხოვრებო ტექნიკაში, აბაზანის ფიტინგებში, შესაფუთ მასალებსა და პლასტმასის მორთვაში.
- ეს სტატია გამოქვეყნდა ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობის მწარმოებელი ჟენჰუას ვაკუუმი
გამოქვეყნების დრო: 2026 წლის 29 აპრილი